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產(chǎn)品用途:此款CVD系統是專(zhuān)門(mén)為在金屬箔上生長(cháng)薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現快速加熱和冷卻。
查看詳細介紹PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G
查看詳細介紹PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G
查看詳細介紹操作便捷性:1、方便的氣路快速連接口,簡(jiǎn)化了流量控制系統與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口(寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口),方便組合多種連接方式。
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