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1200度小型PECVD系統

更新時(shí)間: 2024-05-09

訪(fǎng)問(wèn)次數: 7116

產(chǎn)品報價(jià):

產(chǎn)品簡(jiǎn)介: PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

詳細資料:

產(chǎn)品用途

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成

PECVD系統配置;

1.1200度開(kāi)啟式滑動(dòng)單溫區真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統

4.真空系統(單獨購買(mǎi))

產(chǎn)品特點(diǎn)

電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區域長(cháng);整管可調;精致小巧,性?xún)r(jià)比高,可實(shí)現快速升降溫,是實(shí)驗室生長(cháng)薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

 

 

系統名稱(chēng)

集成型PECVD系統

1200℃小型PECVD系統

系統型號

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統

手動(dòng)

極限溫度

1200

加熱區長(cháng)度

200mm

恒溫區長(cháng)度

100mm

溫區

單溫區

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動(dòng)方式及距離

自動(dòng)滑動(dòng);200mm

手動(dòng)滑動(dòng);200mm

溫度控制

30段程序控溫

50段程序控溫

控制精度

±1

爐管極限工作溫度

1200

氣路法蘭

采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接

排風(fēng)冷卻裝置

的空氣隔熱技術(shù),結合熱感應技術(shù),當爐體表面溫升到50℃時(shí),

排溫風(fēng)扇將自動(dòng)啟動(dòng),使爐體表面快速降溫。

氣體控制方式

質(zhì)量流量計(按鍵式)

氣路數量

2路(2-4路)

4路(可根據具體需要選配氣路數量)

流量范圍

0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定

精度

±1%F.S

響應時(shí)間

1sec

工作溫度(流量計)

20-120

工作壓力

進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

進(jìn)氣方式

采用防倒流設計

規格

中真空(集成型請單獨購買(mǎi))

系統真空范圍

10Pa-100Pa

真空泵

雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S(選配:其他抽速真空泵),出氣口配有油污過(guò)濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw

信號頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出范圍

0W-500W

0W-100W

大反射功率

350W

30W

射頻輸出接口

50Ω,N-type,temale

功率穩定度

±0.1%

諧波分量

-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V)頻率50/60HZ

整機功率

70%

屏幕顯示

正方向功率,匹配器電容位置,偏置電壓值

爐體外形尺寸

290×350×340mm

290×350×495mm

系統外形尺寸

420×1440×1100mm

530×2310×750mm

系統總重量

270Kg

 

 

 

 

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