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產(chǎn)品應用:二
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成:
PECVD系統配置:
1.1200度開(kāi)啟式雙溫區真空管式爐
2.滑動(dòng)系統分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配置管內測溫系統。
3.預加熱開(kāi)啟式管式電爐
4.等離子射頻電源
5.多路質(zhì)量流量控制系統
6.真空系統(可選配中真空或高真空)
產(chǎn)品特點(diǎn):
生長(cháng)溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設備簡(jiǎn)單。
天津中環(huán)電爐股份有限公司 地址:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號
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