產(chǎn)品用途：

此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控

生長(cháng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗。

產(chǎn)品組成：

CVD系統配置：

1.1200度開(kāi)啟式真空管式爐（可選配多溫區）。

2.滑動(dòng)系統分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng)，并配有風(fēng)冷系統。

3.多路質(zhì)量流量控制系統

4.真空系統（可選配中真空或高真空）

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過(guò)沖，性能可靠，操作簡(jiǎn)單。

2 中真空系統具有真空度上下限自動(dòng)控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長(cháng)系統使用壽命。

3 (電動(dòng))滑動(dòng)系統采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng)，等程序完成，爐體按設定的速度滑動(dòng)，因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì )發(fā)生碰撞，待樣品露出爐體后，通過(guò)風(fēng)冷系統快速降溫。