CVD管式爐的應用領(lǐng)域以及特點(diǎn)
更新時(shí)間：2020-01-03 點(diǎn)擊次數：7973
CVD管式爐應用領(lǐng)域：
廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長(cháng)等等;也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理.
產(chǎn)品特點(diǎn)：
專(zhuān)門(mén)設計用于高溫材料沉積之用。 硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預抽真空,便于通入參加反應的氣體， CVD管式爐進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制、溫區設計隔板結構。具有溫度均勻、控制穩定、溫區間溫度擾動(dòng)孝升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長(cháng)等特點(diǎn)，是理想的科研設備。
1、外觀(guān)采用耐高溫、耐腐蝕油漆處理。
2、控制臺采用智能PID數顯控制器、穩定性好、精度高，配有電流表、結構新穎。
3、爐門(mén)采用加厚、加固處理，防止變形
4、爐襯采用高純氧化鋁和保溫棉，保溫效果好
5、爐膛溫度時(shí)時(shí)檢測功能(不加熱情況下同樣顯示爐膛實(shí)際溫度，便于隨時(shí)觀(guān)察爐膛溫度情況)。具有過(guò)載保護和短路保護
6、爐殼選用鋼板折邊焊接制成，工作室為耐火材料制成的爐膛，加熱元件置于其中，爐與殼間用保溫材料砌筑。
